安集科技申请一种蚀刻组合物及其用途专利,能够有效刻蚀硅锗基材料,同时避免对氧化硅和氮化硅等的刻蚀|快报

2024-07-05 16:21:0400:240来自北京
安集科技申请一种蚀刻组合物及其用途专利,能够有效刻蚀硅锗基材料,同时避免对氧化硅和氮化硅等的刻蚀|快报